• Proton     energia: 200 keV - 4 MeV,     áram: 200 eµA,     fényesség: 8-16 Amp(rad)^-2m^-2eV^-1
• Hélium     energia: 200 keV - 6 MeV,     áram: 40 eµA
• További ionok: pl. B, C, O, S, Si, Cu stb.     energia: 200 keV ~ 10 MeV (a töltésállapottól függően),     áram: 10-50 eµA (az ion fajtájától függően)
• Terminálfeszültség stabilitás: ± 30 V / 4 hrs (résáram stabilizálással)
• Terminálfeszültség ripple: 25 V_RMS

Az Atomkiban üzemel az egyetlen magyar elektron-ciklotronrezonanciás (ECR) ionforrás (ECRIS). Az Atomki Részecskegyorsító Központjának tagjaként az ECRIS egy önálló kisenergiás gyorsítóberendezésként szolgáltat plazmát és ionnyalábot.

Fő felhasználási területei:

• alapkutatás (asztrokémia, atomfizika, plazmafizika) és
• gyakorlati alkalmazások (felületfizika, orvosi implantátumok).

A másodlagos semleges-részecske/ion tömegspektrométer (SNMS/SIMS) vékonyrétegekben és felületi bevonatokban kialakuló koncentráció-eloszlások nanométeres feloldással történő vizsgálatára nyújt lehetőséget. Alkalmas akár 1-2 nm egyedi rétegvastagságú többrétegű rendszerek, felületi bevonatok összetevői mélységi eloszlásának vizsgálatára, vagy a felülethez képest mélyebben fekvő határrétegek összetételének kutatására. Segítségével vizsgálhatóak a félvezető és polimer rendszerek adalék komponenseinek mélységi eloszlása is.

röviden

Fourier-transzformációs infravörös spektrométer (FTIR)

Az ESA-22 nagy energia-feloldású elektronspektrométer egy gömb és egy hengertükör analizátor kombinációjából áll. A rendszer egyidejűleg képes az céltárgyból kirepülő elektronok szögeloszlását mérni a ±15^o és ±165^o közötti szögtartományban.

A vákuum ultraibolya fényforrás (VUV - Vacuum UltraViolet) ECR plazma segítségével különböző nemesgáz atomok gerjesztésével fotonokat állít elő a 8,4 eV – 48,4 eV energiatartományban.

A kulturális örökség tárgyainak vizsgálatánál első lépés az optikai képalkotás. A digitális 3D mikroszkóp a képen túl kvantitatív információt ad a tárgyon lévő struktúrák méretéről nemcsak horizontális, hanem vertikális skálán is. Ez segítséget nyújt például vésetek mélységének, illetve felületről kiemelkedő díszítő elemek vastagságának meghatározásában.